引入最先进的ArF浸没式光刻光源技术，以满足用户的进一步需求
日本栃木县小山市--(美国商业资讯)--半导体光刻光源制造商GIGAPHOTON株式会社(总部：栃木县小山市、董事长兼总经理：浦中克己)宣布，新型ArF干式光刻光源GT45A已于今年8月份上市。
在最先进的半导体制造工艺中，技术节点10/7nm(纳米)的微细工艺成为主流，今后通过引入EUV光源的面向7nm以下的微细化技术将备受瞩目。另一方面，随着IoT的普及，14-65nm等技术成熟节点的需求将增加，预计可通过新投资来扩大生产能力和升级现有工厂进行应对。因此，需要进一步改进干式曝光装置，同时必须保证曝光装置的高生产率和高运转率(Availability)。
GT45A通过应用生产现场已引入的下述ArF浸没式光刻光源技术，具备可以满足用户广泛需求的功能扩展性。
主要模块的寿命比以往产品提高50%，实现光源的更高运转，可以提高装置运转率。
最大输出功率达到90W，可以进一步提高生产率。
支持4kHz~6kHz的重复频率，可以满足各种曝光机的要求，有助于提高曝光光学性能。
GIGAPHOTON董事长兼总经理浦中克己表示：“GT45A通过应用在开发ArF浸没式光刻光源时培育的技术，可以针对广泛的客户需求，提供基于最先进技术的最佳解决方案。今后，GIGAPHOTON将继续提供满足客户需求的最佳功能，为半导体制造行业做出更大的贡献。”
GIGAPHOTON公司简介
GIGAPHOTON公司成立于2000年，作为一家激光器的供应商，自成立以来一直为全球的半导体生产厂商提供有价值的解决方案。GIGAPHOTON时刻以客户为中心，从产品研发到生产、销售及维护，为用户提供业界最高水准的支持。更为详细的介绍请您访问：https://www.gigaphoton.com/cs/
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