| - 助力1.4纳米制程半导体生产，降低制造成本与能耗 - 东京--(美国商业资讯)-- Dai Nippon Printing Co., Ltd. (DNP, TOKYO:7912)今日宣布，已成功研发出电路线宽为10纳米（nm，10-9米）的纳米压印光刻(NIL)模板。这款新型模板可实现性能对标1.4纳米制程的逻辑半导体的图案化，满足了尖端逻辑半导体的微型化需求。 本新闻稿包含多媒体。此处查看新闻稿全文： https://www.businesswire.com/news/home/20251208068616/zh-CN/ 研发背景与目标 近年来，随着器件精密度的提升，市场对尖端半导体微型化的需求日益增长，这也推动了基于极紫外(EUV)光刻技术的生产进步。然而，EUV光刻技术在生产线建设和曝光工艺方面需要大量的资本投入，且能耗与运行成本居高不下。 DNP自2003年起便致力于NIL模板的研发工作，在高精度图案化领域成功积累了丰富的技术经验。 在此项最新进展中，DNP研发了一种具有10纳米线图案的NIL模板。它可以替代部分EUV光刻工艺，从而帮助那些不具备EUV光刻生产工艺的客户生产尖端逻辑半导体。 主要特性 未来规划 我们已启动对NIL模板的评估工作，计划于2027年实现量产。DNP将推进NIL模板的进一步开发，并提高产能以满足不断增长的需求，目标是到2030财年使NIL销售额增加到40亿日元。 更多详情 关于DNP DNP创立于1876年，现已成为全球领军企业，以印刷技术为根基开拓创新商业机遇，兼顾环境保护，致力构建更具活力的世界。公司依托微细加工与精密涂布核心技术，为显示设备、电子器件及光学薄膜市场提供产品。 免责声明：本公告之原文版本乃官方授权版本。译文仅供方便了解之用，烦请参照原文，原文版本乃唯一具法律效力之版本。 在 businesswire.com 上查看源版本新闻稿: https://www.businesswire.com/news/home/20251208068616/zh-CN/ CONTACT: 媒体联系人
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